化学气相沉积（Chemical Vapor Deposition，CVD）是一种通过将反应气体中的前体物质（通常是有机化合物或金属有机化合物）引入反应室，并在高温下使其发生热分解或化学反应，生成反应产物，沉积到基底上形成薄膜。这种方法可以用于制备金属、合金、半导体和陶瓷等材料的加热工业炉。

产品参数

1. 型号：YHGYL-CJL**/**-**(尺寸规格定制）

2. 加热方式：等静压石墨电阻加热

3. 电源控制：低直流电压，大电流方式

4. 设计功率200KW，实际生产功率不大于150KW

5. 电源：三相五线制，三相380V,频率50HZ

6. 设计温度：2100℃，长期常用温度 2000℃；

7. 冷却方式：自然冷却

8. 有效放料空间：客户订制

9. 升温速率：装料情况下1000℃以下平均升温速率5℃/min，1000-1800℃平均升温速率5℃/min，1800-2250℃平均升温速率3℃/min

10. 控温精度：RT室温-2000℃≤±5℃

11. 电源配置形式：与炉体集成式

12. 炉体形式：卧式前门出料

13. 炉内工作气份：真空或Ar、N2、NH₃等气体（微正压），真空置换；

 （100-7500pa范围自动恒压控制）

14. 温度均匀度：≤±3℃（恒温30min后评估）；

15. 温度测量：多区钨套管钨铼热电偶测温

16. 温度控制：日本岛电FP23,PID智能化温控仪程序控制（控温精度：±0.1℃）和手动控制；

17. 保护方式：PLC+触摸屏+声光报警

18. 真空系统配置：2H-150滑阀泵

19. 真空测量：电阻+电容薄膜真空规管，测量范围 0-10-⁵ pa

20. 压升率:抽真空至5Pa，停泵30分钟后开始计时，每小时压升 ≤ 10P

21. 冷态极限真空度：≤5Pa（在洁净、冷态、空炉状态下）

22. 空炉抽真空时间 ≤30min（空炉，室温，参照GB/T10066.1-2004规定检测。）

23. 炉内最大压力 0.02Mpa

24. 质量流量计：北京七星华创

25. 冷却系统：所有循环水管道密闭性好，使用过程中无泄漏现象；

26. 电气控制：西门子PLC+台达15寸触摸屏，关键参数如真空度、温度、功率 可实时和历史查询，并可通过 U盘导出，并设置无纸记录仪

27. 关键器件采用进口材料，如控温仪表及测温仪等。

28. 开盖方式：手动

29. 物料进出方式：配置专用进出料车

30. 油漆颜色：主体乳白色，边框天蓝色，底座黑色

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